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传统的PDA涂层制备方法，年度如浸泡法，通常需要严格控制反应的pH，温度和时间，而且效率很低，大约为几纳米每小时。通过体外生物实验发现，售电上述结构能够抑制溶血率和平滑肌细胞（SMC）增殖。

【背景介绍】Zn及其合金具备优异的降解速率，公司工作被称为是可降解心血管支架下一代金属基体材料。未经UVPDA预处理的PLGA涂层在Zn基体上的附着力差，信用初始裂纹产生于b2~b3区域(图3b)，更多裂纹扩展至c2~c4区域(图3c)。等级等级图3.Zn/PLGA和Zn/UVPDA/PLGA结构拉伸测试及SEM观察(a-d)Zn/PLGA。

评定图3所示为Zn/PLGA和Zn/UVPDA/PLGA在拉伸应变分别为10%,40%和拉断时不同位置处涂层的表面形貌结果。主持国家省部级等科研课题十余项，案分围绕表面活化键合新技术在ACSNano,ActaBiomaterialia,CorrosionScience,JMST等学术期刊和国际会议上发表SCI/EI论文100余篇，案分6篇论文获国际会议最佳论文奖、最佳口头报告奖和杰出论文奖，博士论文获东京大学工学院院长奖。

图1.采用真空紫外光沉积和传统浸泡法在Zn表面修饰的PDA涂层表面形貌(a)(b)(c)SEM图像及EDS分析;(d)AFM图像及表面粗糙度分析图2.采用真空紫外光沉积法在Zn表面修饰的PLGA/PDA涂层表面与界面分析(a)表面形貌;(b)Zn/UVPDA界面形貌;(c)Zn/UVPDA/PLGA界面形貌;(d)XPS分析除了纳米划痕实验，辽宁通过拉伸测试结合SEM分析对PLGA所修饰Zn结构的涂层剥离过程进行探究。

通过真空紫外光辅助沉积法在pH=8.5,沉积时间40min的条件下，年度Zn表面修饰的PDA涂层(Zn/UVPDA)厚度为0.48±0.12μm(如图2b所示)，年度沉积速率为720nm/h，与传统浸泡法和目前所报道的大多研究相比，效率提高了1~2个数量级。他们照料花草，售电是最爱光亮，是善良亲切的小妖精。

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